ASML advierte: "Estrangular a China puede acabar creando un competidor"

Demasiado tarde. Christophe Fouquet, el director general de ASML, ha expresado públicamente su preocupación por las consecuencias de la presión que EEUU y sus aliados están ejerciendo sobre la industria de los chips de China. «Intentar estrangular demasiado a China puede acabar creando un competidor […] Ahora solo hay una compañía fabricando estas máquinas», ha declarado Fouquet a Financial Times. Se refiere, cómo no, a ASML y su monopolio efectivo en el mercado de los equipos de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE).

Las compañías japonesas Canon y Nikon intentaron durante la pasada década desarrollar sus propias máquinas de litografía UVE, pero ambas abandonaron este proyecto debido a la enorme complejidad técnica que implicaba y a la gran inversión en recursos que deberían afrontar. Hoy todos los chips de vanguardia del planeta se fabrican en máquinas de ASML. No importa si los produce TSMC, Intel, Samsung, SK hynix o Micron. Todas estas compañías son clientes de la empresa neerlandesa que lidera el mercado de los equipos de fotolitografía.

La posición de ASML es relativamente cómoda. Actualmente tiene una ventaja tecnológica indiscutible sobre sus competidores, pero Fouquet sostiene, con razón, que esta posición de dominio podría verse comprometida si China finalmente desarrolla sus propias máquinas UVE como respuesta a la presión de EEUU y sus aliados. Es evidente que es así. Lo sorprendente es que el máximo responsable de ASML haga esta declaración en un momento en el que es de dominio público que China está invirtiendo muchísimos recursos en el desarrollo de un equipo de litografía UVE que debería llegar antes de 2030.

El monopolio de ASML es un arma geopolítica

Para el Gobierno de EEUU, ASML es una herramienta de presión sobre China. Sin sus máquinas más avanzadas este país asiático se ha visto obligado a recurrir al multiple patterning para poder fabricar circuitos integrados de 7 nm. Muy a grandes rasgos esta técnica consiste en exponer la oblea varias veces con el propósito de trasladar un patrón geométrico con una resolución más alta que la que es posible alcanzar con un número menor de exposiciones. SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corp), el mayor fabricante chino de chips, la está usando para producir sus semiconductores más avanzados, pero está pagando un peaje muy alto.